Cén Fáth a Leathnaíonn Fathach Leathsheoltóra Úsáid Fluairín Ard-íonachta (Meascán F2)?

De réir Thuarascáil Inbhuanaitheachta SK Hynix 2024 a eisíodh le déanaí, cuirfear Hynix in ionad angás trifluairíd nítriginea úsáidtear i bpróisis ghlantacháin leathsheoltóra le gás íseal-phoitéinseal téimh dhomhanda (GWP) atá neamhdhíobhálach don chomhshaol. Tuairiscítear go n-úsáideann na próisis seomeascán gáis fluairín ard-íonachta (Meascán F2).

Sa phróiseas eitseála de tháirgeadh leathsheoltóra, eitseáiltear struchtúir isteach sa leathsheoltóir. Tarlaíonn an chéim seo i etcher mar a thugtar air. Taisceann an t-ábhar eitseáilte freisin ar bhallaí an uirlis eitseála, mar sin tá gá le próiseas ar leith chun an uirlis a ghlanadh. I bhformhór na gcásanna, déantar é a ghlanadh leNF3, ach tá eitseálacha ar an margadh a úsáideann ameascán gáis F2/N2 ardíonachta.

Baineann na meascáin gháis seo comhdhúile SiO2 agus Si3N4 amach ar bhealach atá neamhdhíobhálach don chomhshaol agus is féidir iad a athsholátharNF3mar ghás glantacháin. Ina theannta sin, tá an GWP (Poitéinseal Téimh Dhomhanda) den mheascán F2/N2 náid i gcomparáid le NF3's 17900. Is féidir an meascán gáis F2/N2 a athsholáthar freisin.gáis ghlantacháin eile amhail CF4 nó C2F6.

Tá meascáin gháis fluairín éagsúla forbartha agus paitinnithe ag SOLVAY. Mar ghás atá neamhdhíobhálach don chomhshaol le haghaidh próisis glantacháin CVD, úsáideann Solvaclean® i bhfad níos lú gáis in aghaidh an timthrialla agus mar sin tá sé níos éifeachtaí, in ainneoin go bhfuil ráta glantacháin comhchosúil aige i gcomparáid le roghanna eile. Má scaoiltear F2 isteach sa chomhshaol, díscaoileann sé láithreach i HF. Tá HF absorbtha ag taise agus ina dhiaidh sin nite ar shiúl ag báisteach. Níl aon rud fágtha san atmaisféar. Níl GWP (Poitéinseal Téamh Domhanda) ag táirgí Solvaclean®.

Tuairiscítear go bhfuil monaróirí sliseanna ar nós Hynix agus Samsung ag iarraidh cur i bhfeidhm gás measctha fluairín ard-íonachta (F2 Mix) a leathnú.

Is gás eile a úsáidtear níos mófluairíd hidrigine (HF), a úsáidtear i dtrealamh eitseála crióigineach. Tá GWP de 1 nó níos lú ag HF, i bhfad níos ísle ná na gáis fluaracarbóin a úsáideadh san am atá caite le haghaidh eitseáil poll cainéal NAND.Gáiseann an teaghlach fluaracarbóin teitreafluairíd charbóin (CF4)agus tá GWPanna 6030 agus 9540, faoi seach, ag octafluorocyclobutane (C4F8).

Táthar ag súil freisin go mbeidh tionchar ag an athrú thuasluaite ar úsáid gáis ar fheidhmíocht na n-ábhar gaolmharcuideachtaí gáis speisialtachta leictreonacha.